近日，第 20 届 IEEE/CVF 国际计算机视觉大会（ICCV 2025）公布录用结果。陕西师范大学计算机学院、民歌智能计算与服务技术文化和旅游部重点实验室、西安市文化和旅游资源开发利用重点实验室杨瑞博士为第一作者，吴晓军教授作为通讯作者的论文《Stroke2Sketch: Harnessing Stroke Attributes for Training-Free Sketch Generation》被 ICCV 2025 正式录用。作为计算机视觉领域最具影响力的顶级国际会议之一，ICCV 由电气与电子工程师协会（IEEE）主办，是中国计算机学会（CCF）推荐的 A 类会议。本届大会将于 2025 年 10 月 19 日至 23 日在美国夏威夷举行。论文单位为陕西师范大学，合作单位包括华侨大学、北京航空航天大学、华南理工大学和新加坡管理大学的相关学者。

该研究聚焦于参考草图风格迁移中“精准传递笔画粗细、曲率、密度等细节特征，同时保持语义结构与内容保真度”的核心难题。现有方法在笔画表达能力、风格泛化能力及语义保持方面均存在不足，难以模拟人类艺术家基于语义重点灵活调整笔触的能力。针对这一挑战，研究团队提出了无需训练的草图生成框架 Stroke2Sketch。该方法基于预训练扩散模型，通过嵌入跨图像笔画注意力机制（Cross-image Stroke Attention）、前景导向注意模块（Directive Attention Module）与结构保持模块（Semantic Preservation Module），实现了笔画风格与图像语义的高效对齐。实验结果表明，Stroke2Sketch 在风格一致性、结构保真度与用户主观偏好等多个指标上显著优于现有方法，在无需额外训练的条件下达到了当前草图风格迁移的最优性能。
本研究不仅为草图风格迁移提供了可解释、灵活的技术路径，也展示了预训练扩散模型在零训练生成任务中的潜力。

这是实验室2025年继AAAI 2025会议录用的论文“Ref2Sketch-SA: One-Shot Reference-based Structure-Aware Image to Sketch Synthesis”之后，与中国书画生成与复原方向相关的第二篇CCF A顶会论文。